KrF光刻膠

產(chǎn)品應(yīng)用

                                                                                                                        

集成電路：

-28-180nm技術(shù)節(jié)點

-邏輯、存儲、功率器件

-poly，gate，contact，via，metal等工藝層制作

產(chǎn)品特點

                                                                                                                        

- 分辨率：0.15-0.25μm

- 膜厚：0.4-2μm

- 高深寬比，耐刻蝕，耐離子注入，高感光度